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PFS-200 は現代産業における高性能・多機能添加剤への高まるニーズに応えるため開発された革新的なヒュームドシリカです。正電荷、疎水性、優れた分散性により、幅広い用途で卓越した性能を発揮します。製品の安定性と品質を向上させるだけでなく、製造プロセスを簡素化し、企業の時間とコストを削減します。
| 特性・試験方法 | 単位 | 数値 |
|---|---|---|
| 比表面積(BET) | m²/g | 170±20 |
| 4% 分散液 pH | – | 5.5~7.5 |
| 乾燥減量(105℃・2 時間) | 重量 % | ≤1.5 |
| 強熱減量(1000℃・2 時間) | 重量 % | ≤5.0 |
| SiO₂ 含有率(強熱後換算) | 重量 % | ≥99.8 |
| タップ密度 | g/l | 45±10 |
| 炭素含有率(C) | % | 4.5~6.0 |
| 表面電荷 | – | 正電荷 |
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